单晶制绒添加剂 MQT-810A系列

单晶制绒添加剂 MQT-810A系列

适用于普通单晶制绒,PERC制绒,TOPCon制绒

效率高

  • 反射率低,绒面均匀,稳定性好,效率优势明显。

反射率低

  • 反射率低且周期内稳定,上升幅度小。

出绒率高

  • 绒面密度高,宽高比值小,可调空间大,适配性好。

低成本

  • 化学品耗量低,成本优势明显。

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工艺流程图

mqtliuchengtu

碱抛光添加剂 BPL-719系列

碱抛光添加剂 BPL-719系列

去污能力强

  • 背面处理干净,具有更强的去污能力,更干净的碱抛效果。

保护性强,绒面均匀平整

  • 适用于臭氧氧化及链式氧化。碱抛光之后塔基平整,塔基之间衔接良好。

降低成本

  • 降低碱抛的后清洗浓度,或者去掉后清洗步骤。

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碱抛光添加剂.pdf

工艺流程图
单晶刻蚀段

bplliuchengtu

单晶制绒添加剂 MQT-809A系列

单晶制绒添加剂 MQT-809A系列

适用于普通单晶制绒,PERC制绒,TOPCon制绒

效率高
  • 反射率低,绒面均匀,稳定性好,效率优势明显。

反射率低

  • 反射率低且周期内稳定,上升幅度小。

出绒率高

  • 绒面密度高,宽高比值小,可调空间大,适配性好。

低成本

  • 化学品耗量低,成本优势明显。

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工艺流程图
单晶制绒段